真空烘箱 VPO-300

貨號: VPO-300 分類: 標籤: , , , ,
  • 廠牌:德國UNITEMP
  • RTA(快速熱退火)和RTP(快速熱處理)系統,可與紅外線加熱器配合使用,可快速加熱和冷卻半導體晶片,主要用於需短時間將基板加熱到一定溫度的應用。
  • 真空烤箱適合300mm以下的晶片、4片156mm太陽能電池或300×300mm左右的基板。
  • 以10-3hPa快速達到真空(可選最大10-6hPa),處理週期非常短。
  • 最大可容納300 × 300 mm的基板尺寸。
  • 溫度最高可達1000°C。
  • 精確快速的上升和下降速率。
  • 最多可達4條氣體管線。
  • 由紅外線燈加熱,3個加熱區可編程。
  • 50個程序,每個程序有50個編程。
  • 頂部和底部加熱(通過軟體選擇)。

產品規格

型號VPO-300
腔室裝載區域:300 × 300 mm 或 12”晶圓
箱體尺寸:350 × 350 × 50 mm(可選:箱體高度120 mm)
箱壁:鋁拋光,易於清潔(可選:不鏽鋼)
真空度10-3 hPa(可選:10-6 hPa)
溫度高達1000°C
溫度均勻性設定溫度的1 %(在200 mm的晶圓上)
加熱底部加熱:紅外燈18 kW 頂部加熱:紅外燈18 kW
上升速率40 K/sec
下降速率T = 1000°C > 400°C:200 K/min,T = 400°C > 100°C:30 /min
使用氣體1條帶質量流量控制器的氣體管線(5 nlm=升/分鐘)
(可選:最多添加3條氣體管線)
程序控制50個程序,每個程序有50個編程
基板冷卻氮氣
電壓功率2 ×(400 / 230V,18 kW)
尺寸W540 × D690 × H890 mm
重量140 kg

選購配件

項目說明
VPO-CAB-UHEFloor model with cabinet and integrated Universal Heat Exchanger (UHE)
VPO-MFCAdditional gas line with Mass Flow Controller (max. 3 add. gas lines)
VPO-EHChamber height 100 mm (instead of 50 mm) with viewing window (85 mm x 25 mm)
VPO-HTTemperature extension up to 1200 °C
VPO-SSChamber made of stainless steel (VA 1.4305) polished, instead of aluminum 50 mm
VPO-GPGraphite Plate or Susceptor 3 mm thick
VPO-LPLift pins for raising a single wafer
VPO-TCAdditional thermocouple to measure on device (plugged in chamber) (max. 3 pcs)
VPO-QPQuartz glass plate for sealing the top lamp field
VPO-OP1Overpressure up to 200 mbar, 10-3 hPa up to 0,02 MPa
VPO-OP2Overpressure up to 2000 mbar, 10-3 hPa bis 0,2 MPa
VPO-SISerial interface between VPO system and external PC
VPO-RCRemote control of top cover opening and closing (not for VPO-300-HV version)
VAC IBasic Vacuum up to 3 hPa, Vacuum sensor, vacuum valve excl. pump (not for VPO-300-HV version)
VAC IIComfort Vacuum up to 10-3 hPa, Pirani Sensor, vacuum valve, excl. pump
Hood LProtective safety hood for use of 100 % hydrogen (excl. H2 sensor, gas box and flame -off unit) others on request

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