產品規格
| 型號 | E-P20G-2-M1 | E-P25G-2-M1 |
| 盤面尺寸 | 8″ | 10″ |
| 盤面數量 | 2 | 2 |
| 研磨方式 | 半自動研磨手臂 | 半自動研磨手臂 |
| 樣品數量 | 1 | 1 |
| 樣品尺寸 | Ø25/Ø32/Ø40/Ø50 | Ø25/Ø32/Ø40/Ø50 |
| 盤面功率 | 400W | 400W |
| 盤面轉速 | 1~600rpm | 1~600rpm |
| 時間設定 | 最大99:59 | 最大99:59 |
| 機台尺寸 | W880×D650×H600mm | W880×D650×H600mm |
| 機台重量 | 76kg | 78kg |
手動研磨拋光機 E-P20G-2-M1
- 研磨可去除樣品表面的變質層，並且使材料表面更加平整光滑。
- 研磨可分為兩個過程：粗磨及細磨，粗磨主要目的為磨平切割後所殘留的毛邊及不平整處，細磨則可獲得較小變形度的表面。
- 拋光的原理如同研磨，透過更細的研磨顆粒，將樣品表面拋成鏡面，以利顯微鏡反光，方便金相組織觀察。
- 控制系統模組化設計、空間運用彈性最大化。
- 伸縮式噴水座、盤面正反轉及快速甩乾功能。
- 可搭配鑽石盤（選配）最佳化研磨平整度。
- 可與滴瓶機構連動（選配）。
- 半自動研磨手臂、兼顧製樣的安全、方便與一致性。
