Specification
| Model | P03Q |
| 有效面積 | 412×252mm |
| 反應區數量 | 6層 |
| 射頻源 | 600W@13.56KHz |
| 壓縮空氣壓力 | 0.15~0.2Mpa |
| 腔體尺寸 | W493×D379×H470 mm |
| 設備尺寸 | W750×D905×H1854 mm |
| Weight | 470kg |
Plasma Treatment System P03Q
- 採用13.56MHz射頻電源搭配自動網路匹配器。
- 治具靈活多變，可適應不同形狀的產品，如封裝電路板、半導體晶片、太陽能電池等。
- 平台可靈活移動，方便操作。
- 鏡面不鏽鋼外觀，更易於搭配無塵室使用。
- 採用PLC程序控制，簡易靈活的參數設定控制，安全可靠的監測保護功能。
- 可實時監測等離子工藝時間和每一個處理過程時間。
